ភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ 99.95% Tungsten Sputtering Target
ប្រភេទ និងទំហំ
| ឈ្មោះផលិតផល | គោលដៅបាញ់ថ្នាំ Tungsten (W-1) |
| ភាពបរិសុទ្ធដែលមាន (%) | 99.95% |
| រាង៖ | ចាន, ជុំ, rotary |
| ទំហំ | ទំហំ OEM |
| ចំណុចរលាយ (℃) | 3407(℃) |
| បរិមាណអាតូមិច | 9.53 សង់ទីម៉ែត្រ3/mol |
| ដង់ស៊ីតេ(g/cm³) | 19.35 ក្រាម / សង់ទីម៉ែត្រ 3 |
| មេគុណសីតុណ្ហភាពនៃភាពធន់ទ្រាំ | 0.00482 I/℃ |
| កំដៅ sublimation | 847.8 kJ/mol (25 ℃) |
| កំដៅមិនទាន់ឃើញច្បាស់នៃការរលាយ | 40.13 ± 6.67kJ / mol |
| ស្ថានភាពផ្ទៃ | ប៉ូឡូញឬអាល់កាឡាំងលាងសម្អាត |
| កម្មវិធី៖ | លំហអាកាស ការរលាយផែនដីកម្រ ប្រភពពន្លឺអគ្គិសនី ឧបករណ៍គីមី ឧបករណ៍វេជ្ជសាស្ត្រ គ្រឿងម៉ាស៊ីនលោហធាតុ ការរលាយ |
លក្ខណៈពិសេស
(1) ផ្ទៃរលោងដោយគ្មានរន្ធញើស, កោសនិងភាពមិនល្អឥតខ្ចោះផ្សេងទៀត។
(2) ការកិនឬគែម lathing, មិនមានស្នាមកាត់
(3) ភាពមិនបរិសុទ្ធនៃសម្ភារៈ
(4) ភាពបត់បែនខ្ពស់។
(5) រចនាសម្ព័ន្ធខ្នាតតូចដូចគ្នា
(6) ការសម្គាល់ឡាស៊ែរសម្រាប់ធាតុពិសេសរបស់អ្នកជាមួយនឹងឈ្មោះម៉ាក ទំហំភាពបរិសុទ្ធ និងដូច្នេះនៅលើ
(7) រាល់ pcs នៃគោលដៅ sputtering ពីធាតុសមា្ភារៈម្សៅ & លេខ, កម្មករលាយ, outgas និង HIP ពេលវេលា, មនុស្សម៉ាស៊ីននិងសេចក្តីលម្អិតវេចខ្ចប់ទាំងអស់ត្រូវបានបង្កើតឡើងដោយខ្លួនយើង។
កម្មវិធី
1. មធ្យោបាយសំខាន់មួយក្នុងការធ្វើឱ្យវត្ថុធាតុស្តើងគឺការបាញ់ទឹក ដែលជាវិធីថ្មីនៃការបញ្ចេញចំហាយរាងកាយ (PVD)។ខ្សែភាពយន្តស្តើងដែលផលិតតាមគោលដៅត្រូវបានកំណត់លក្ខណៈដោយដង់ស៊ីតេខ្ពស់ និងការស្អិតជាប់ល្អ។ដោយសារបច្ចេកទេសស្ពែម៉ាញេទិកកំពុងត្រូវបានអនុវត្តយ៉ាងទូលំទូលាយ គោលដៅលោហៈសុទ្ធ និងយ៉ាន់ស្ព័រគឺត្រូវការយ៉ាងខ្លាំង។ដោយមានចំណុចរលាយខ្ពស់ ភាពបត់បែន មេគុណទាបនៃការពង្រីកកម្ដៅ ភាពធន់ និងស្ថេរភាពកំដៅដ៏ល្អ គោលដៅលោហៈធាតុ tungsten និង tungsten សុទ្ធត្រូវបានប្រើប្រាស់យ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងសៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នា semiconductor ការបង្ហាញពីរវិមាត្រ សូឡាសូឡា កាំរស្មី X បំពង់ និងវិស្វកម្មផ្ទៃ។
2. វាអាចធ្វើការជាមួយទាំងឧបករណ៍បំពងសំឡេងចាស់ៗ ក៏ដូចជាឧបករណ៍ដំណើរការចុងក្រោយបំផុត ដូចជាថ្នាំកូតផ្ទៃធំសម្រាប់ថាមពលពន្លឺព្រះអាទិត្យ ឬកោសិកាឥន្ធនៈ និងកម្មវិធីបំលែងបន្ទះឈីប។
ផលិតផលដែលពាក់ព័ន្ធ
-
តង់ស្ពាន់ Alloy Rods
ការពិពណ៌នា ទង់ដែង tungsten (CuW, WCu) ត្រូវបានគេទទួលស្គាល់ថាជាសម្ភារៈសមាសធាតុដែលធន់នឹងការសាយភាយ និងធន់នឹងការលុបបំបាត់ ដែលត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយជាអេឡិចត្រូតទង់ដែងនៅក្នុងម៉ាស៊ីន EDM និងកម្មវិធីផ្សារធន់ទ្រាំ ទំនាក់ទំនងអគ្គិសនីក្នុងកម្មវិធីតង់ស្យុងខ្ពស់ និងឧបករណ៍កម្តៅ និងការវេចខ្ចប់អេឡិចត្រូនិកផ្សេងទៀត។ សម្ភារៈនៅក្នុងកម្មវិធីកំដៅ។សមាមាត្រ tungsten / ទង់ដែងទូទៅបំផុតគឺ WCu 70/30, WCu 75/25 និង WCu 80/20 ។អូថេ...
-
ខ្សែ Niobium
ការពិពណ៌នា R04200 -Type 1, Reactor grade unalloyed niobium;R04210 - ប្រភេទទី 2, niobium ដែលមិនប្រើថ្នាក់ពាណិជ្ជកម្ម;R04251 - ប្រភេទទី 3, យ៉ាន់ស្ព័រ niobium ថ្នាក់ទី 1 ដែលមាន zirconium 1%;R04261 - ប្រភេទទី 4, យ៉ាន់ស្ព័រ niobium ថ្នាក់ពាណិជ្ជកម្មដែលមាន 1% zirconium;ប្រភេទ និងទំហំ៖ ភាពមិនបរិសុទ្ធនៃលោហធាតុ, ppm អតិបរមាដោយទម្ងន់, តុល្យភាព - ធាតុ Niobium Fe Mo Ta Ni Si W Zr Hf មាតិកា 50 100 1000 50 50 300 200 200 ភាពមិនបរិសុទ្ធមិនមែនលោហធាតុ, ppm អតិបរមាដោយទម្ងន់...
-
Molybdenum Copper Alloy, MoCu Alloy Sheet
ប្រភេទ និងទំហំសម្ភារៈ Mo មាតិកា Cu មាតិកាដង់ស៊ីតេ ចរន្តកំដៅ 25℃ CTE 25℃ Wt% Wt% g/cm3 W/M∙K (10-6/K) Mo85Cu15 85±1 តុល្យភាព 10 160-180 6.8 Mo80Cu20 80±1 តុល្យភាព 9.9 170-190 7.7 Mo70Cu30 70±1 តុល្យភាព 9.8 180-200 9.1 Mo60Cu40 60±1 តុល្យភាព 9.66 210-250 10.3 Mo50Cu50 50±0.54 តុល្យភាព 9.66-210-250 10.3 Mo50Cu50 50±0.54.070201C 9.54
-
Molybdenum Heat Shield & Pure Mo screen
ការពិពណ៌នាអំពីផ្នែកការពារកំដៅ Molybdenum ដែលមានដង់ស៊ីតេខ្ពស់ វិមាត្រពិតប្រាកដ ផ្ទៃរលោង ការរចនាងាយស្រួល និងសមហេតុផល មានសារៈសំខាន់ដ៏អស្ចារ្យក្នុងការកែលម្អការទាញគ្រីស្តាល់។ក្នុងនាមជាផ្នែកការពារកំដៅនៅក្នុងចង្រ្កាននៃត្បូងកណ្តៀង មុខងារដែលសម្រេចចិត្តបំផុតនៃរបាំងកំដៅ molybdenum (molybdenum reflection shield) គឺដើម្បីការពារ និងឆ្លុះបញ្ចាំងពីកំដៅ។របាំងការពារកំដៅ Molybdenum ក៏អាចប្រើក្នុងការការពារតម្រូវការកំដៅផ្សេងទៀតផងដែរ ...
-
Lanthanated tungsten Alloy Rod
ការពិពណ៌នា តង់ស្ទីន Lanthanated គឺជា យ៉ាន់ស្ព័រ អុកស៊ីតកម្ម lanthanum doped tungsten ដែលត្រូវបានចាត់ថ្នាក់ជា oxidized rare earth tungsten (W-REO) ។នៅពេលដែលអុកស៊ីដ lanthanum បែកខ្ចាត់ខ្ចាយត្រូវបានបន្ថែម តង់ស្តែន lanthanated បង្ហាញភាពធន់នឹងកំដៅ ចរន្តកំដៅ ធន់ទ្រាំនឹងការជ្រៀតចូល និងសីតុណ្ហភាព recrystallization ខ្ពស់។លក្ខណៈសម្បត្តិដ៏អស្ចារ្យទាំងនេះជួយឱ្យអេឡិចត្រូត tungsten lanthanated សម្រេចបាននូវការសម្តែងពិសេសនៅក្នុងសមត្ថភាពចាប់ផ្តើមធ្នូ សំណឹកធ្នូ ...
-
Tantalum Sputtering Target - ឌីស
ការពិពណ៌នា គោលដៅនៃការបាញ់ថ្នាំ Tantalum ត្រូវបានអនុវត្តជាចម្បងនៅក្នុងឧស្សាហកម្ម semiconductor និងឧស្សាហកម្មថ្នាំកូតអុបទិក។យើងផលិតលក្ខណៈជាក់លាក់ផ្សេងៗនៃគោលដៅ tantalum sputtering តាមការស្នើសុំរបស់អតិថិជនពីឧស្សាហកម្ម semiconductor និងឧស្សាហកម្មអុបទិក តាមរយៈវិធីបូមធូលី EB furnace ។ដោយការប្រុងប្រយ័ត្ននៃដំណើរការរំកិលតែមួយគត់ តាមរយៈការព្យាបាលដ៏ស្មុគស្មាញ និងសីតុណ្ហភាព និងពេលវេលានៃការបន្ទោរបង់ត្រឹមត្រូវ យើងបង្កើតទំហំខុសៗគ្នា o...
